%0 Generic
%A Morhard, Christoph
%D 2010
%F heidok:11426
%K antireflective , moth-eye , bcml , nanostructuring
%R 10.11588/heidok.00011426
%T Herstellung effektiver Medien mittels mizellarer Blockcopolymer Nanolithographie
%U https://archiv.ub.uni-heidelberg.de/volltextserver/11426/
%X In dieser Arbeit wurden neuartige, im Nanometerbereich strukturierte Materialien entwickelt. Zur Erzeugung biomimetischer, antireflexiver Schichten wurden Nanopartikelmuster mittels der mizellaren Blockcopolymer Nanolithographie (engl. „block copolymer micellar nanolithography“ - BCML) hergestellt und anschließend als Maske für einen reaktiven Ionenätzprozess genutzt. Um eine größere Variation an Nanopartikelmustern zu erschließen wurde die BCML-Technik erweitert. Hierzu wurde ein neues Verfahren entwickelt, das es erlaubt, verschiedene binäre StrukturenausNanopartikelnherzustellen.Weiterhinwurdeeinneuartiges Belichtungsverfahren eingeführt, welches es erstmalig erlaubt, die Nanopartikelgröße ortsaufgelöst zu verändern. Die Nanostrukturen, die auf den Augen bestimmter Motten entdeckt wurden, wirken antireflektiv. In dieser Arbeit neu entwickelte mehrschrittige Ätzprozesse erlauben es, solche Strukturen großflächig und kostengünstig herzustellen. Die so erzeugten Strukturen können für eine antireflektive Wirkung bei verschiedene Wellenlängen (UV-Bereich) oder für eine extrem breitbandige Wirkung optimiert werden. Die antireflektive Wirkung der Strukturen wurde erfolgreich auf flachen Substraten, sowie auf optische Elemente gezeigt. Um ein Beschlagen von Quarzglas durch Luftfeuchtigkeit zu verhindern, wurde außerdem ein neues Verfahren entwickelt, das erstmals eine chemische Modifizierung der Oberfläche mit einer stochastischen Nanostrukturierung kombiniert. Dies führt zur Ausbildung superhydrophiler Quarzglasoberflächen welche einen ausgeprägten Antibeschlagseffekt zeigen und im Gegensatz zu anderen Verfahren sowohl bei Temperaturschwankungen (-25°C – 120°C), als auch bei Lagerung über einige Wochen wirksam bleiben.