TY  - GEN
N2  - Im Rahmen dieser Arbeit wurden die
optischen Eigenschaften verschiedener astrophysikalisch relevanter Materialien
(SiO2, SiO, Fe, Mg, (Mg,Fe)2SiO4) mittels Infrarotspektroskopie an dünnen
Filmen auf Siliziumsubstraten bestimmt. Die dielektrische Funktion der amorphen
Siliziumoxide und Silikate konnte anhand eines einheitlichen Modells aus
Brendel-Oszillatoren für die Vibrationsbanden beschrieben werden. Zusätzlich
wurde für SiO auf Si(111) der Einfluss der Temperatur und der Oberflächenstruktur
des Substrates untersucht. Für beide Parameter konnte eine
Abhängigkeit der Position der stärksten Absorptionsbande beobachtet werden,
deren jeweilige Ursache diskutiert wird. Für Eisen wurde das Filmwachstum
auf Si(111) und dessen Temperaturabhängigkeit sowie das Wachstum auf
unterschiedlichen Siliziumoxidschichten untersucht. Es konnten verschiedene
Phasen in Abhängigkeit der Schichtdicke und des verwendeten Substrates
beobachtet werden. Für Magnesium- und Eiseninselfilme auf Siliziumoxidschichten
tritt aufgrund der Wechselwirkung zwischen der plasmonischen und
phononischen Anregung eine Fano-artige Bande auf. Ergänzend zu den infrarotspektroskopischen
Untersuchungen wurde der Gleichgewichtsdampfdruck
und Verdampfungskoeffizient von SiO gemessen. Hierzu wurde ein Aufbau zur
Bestimmung von Dampfdrücken nach der Knudsenmethode weiterentwickelt
und verbessert.

UR  - https://archiv.ub.uni-heidelberg.de/volltextserver/13967/
A1  - Wetzel, Steffen
ID  - heidok13967
TI  - Infrarotspektroskopische Untersuchung von Siliziumoxiden, Silikaten, deren Wechselwirkung mit Metallinselfilmen sowie
Dampfdruckmessungen an Siliziummonoxid
Y1  - 2012/11/08/
AV  - public
ER  -