title: Untersuchung der Herstellungsbedingungen von durch Gasphasenabscheidung hergestellten Platinnanocluster und die chemische Modifizierung von Polymeroberflächen
creator: Muck, Dietmar Harald
subject: ddc-540
subject: 540 Chemistry and allied sciences
description: Ausgangspunkt und Zielsetzung dieser Arbeit ist die Oberflächenmodifikation von Materialien mittels Ionenstrahlen im Hinblick auf Mikro- und Nanostruktu-rierung. Dabei wurden zum einen die Parameter für die Bildung von Platinnanoclustern in einer Siliziumdioxidmatrix untersucht, zum anderen Oberflächenmodifikationen von Polymeren am Beispiel von Polyethersulfon (PES) im Hinblick auf eine chemische Mikro-Strukturierung mit den Reaktivgasen Ammoniak und Sauerstoff durchgeführt. Hierfür wurde eine Niederenergie Ionenstrahlquelle mit Extraktionsenergien bis 1000 eV vom Typ der Kaufmanquelle entwickelt. Desweiteren wurden orientierende Untersuchungen mit einer massenselektiven Ionenstrahlquelle (RAH 20 der Fa. Jenion) mit dem Ziel durchgeführt, reaktive Zwischenprodukte organischer Substanzen im Plasma herzustellen und sie auf einem Target abzuscheiden. Von Interesse waren hierbei die unter Nichtgleichgewichtsbedingungen entstandenen Produkte.
date: 2001
type: Dissertation
type: info:eu-repo/semantics/doctoralThesis
type: NonPeerReviewed
format: application/pdf
identifier: https://archiv.ub.uni-heidelberg.de/volltextserverhttps://archiv.ub.uni-heidelberg.de/volltextserver/1821/1/DISSERTATION_DIETMAR_MUCK.PDF
identifier: DOI:10.11588/heidok.00001821
identifier: urn:nbn:de:bsz:16-opus-18214
identifier:   Muck, Dietmar Harald  (2001) Untersuchung der Herstellungsbedingungen von durch Gasphasenabscheidung hergestellten Platinnanocluster und die chemische Modifizierung von Polymeroberflächen.  [Dissertation]     
relation: https://archiv.ub.uni-heidelberg.de/volltextserver/1821/
rights: info:eu-repo/semantics/openAccess
rights: http://archiv.ub.uni-heidelberg.de/volltextserver/help/license_urhg.html
language: ger